车厢內恢復了安静。

“天鼓”平稳地行驶在公路上，朝著龙岗区的方向驶去。

半小时后，车辆抵达了雷霆晶片工厂。

工厂负责人肖光楠早已等候在办公楼主楼的门口。

看到马宇腾和张柯从车上下来，他快步迎了上来。

“马总，张总。”

马宇腾点点头，目光越过他，看向他身后。

在几位穿著防尘服的技术人员中，一个熟悉的身影格外显眼。

梁锰颂。

他似乎刚刚从无尘车间出来，身上还穿著连体的防尘服，只摘掉了头套和口罩，额前的头髮被汗水浸湿，贴在皮肤上。

他的表情一如既往的严肃，甚至带著一丝被打断工作的不悦。

马宇腾主动走了过去。

“梁博士，最近还习惯吗？生活上有没有什么需要解决的？”

他亲切地问道。

看到马宇腾亲自前来，梁锰颂脸上的不耐烦收敛了一些。

他点点头，声音有些沙哑。

“都很好。公司安排得很周到，我太太也很满意。多谢马总关心。”

他的回答简洁而克制，但马宇腾能听出其中的真诚。

对於梁锰颂这样的人，工作上的全情投入，就是他表达满意的最佳方式。

“那就好。”马宇腾没有过多寒暄，直接切入正题。

“我们进去谈。”

一行人穿过走廊，进入了研发试验区专用的会议室。

梁锰颂脱下防尘服，走到白板前，没有需要任何ppt或者资料，整个项目的进度图，早已刻在了他的脑子里。

“马总，张总。我来介绍一下40纳米製程项目的最新进展。”

他拿起一支马克笔，在白板上画了一个简单的流程图。

“得益於我们团队强大的执行力，以及之前在45纳米项目上积累的宝贵数据，目前40纳米的研发推进速度，比我预期的还要快。”

他的语气里，带著一丝难以掩饰的自豪。

“其中最大的两个难点，光刻和应变硅，我们已经基本攻克了。”

他看向马宇腾，眼神里闪烁著光芒。

“asml那边，受我们跟台积电的关係影响，被迫停止了对我们关於193纳米浸没式光刻机的技术支持。台积电的算盘是，没有asml的双重曝光技术（dpt）和软体支持，我们就不可能实现40纳米所需要的关键尺寸。”

张柯的眉头微微皱起。

这件事他知道，是晶片事业群面临的一个重大外部压力。

“但是，”梁锰颂话锋一转，语气变得昂扬。

“我找到了另一条路。我们绕开了asml，直接和尼康进行深度合作。利用尼康在镜头和对准系统上的优势，我们开发出了一套属於自己的多重曝光工艺解决方案。”

“虽然在初期，这套方案的良率控制会比asml的方案更复杂，但它给了我们自主权。我们再也不用看他们的脸色。”

马宇腾静静地听著，手指在会议桌上轻轻敲击。

用市场换技术，从来不是他的风格。

用技术换市场，才是。

梁锰颂的选择，与他的理念不谋而合。